徕卡真空镀膜仪

　　样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。

　　LeicaEMACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。

　　徕卡真空镀膜仪主要技术参数：

　　·可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

　　·设计脉冲式碳丝蒸发方式，可免费b2b网站控制碳膜厚度

　　·可选石英膜厚检测器，免费b2b网站控制镀膜厚度，精度达0.1nm

　　·全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

　　·触摸屏控制，简单方便

　　·真空度7×10-3mbar

　　·溅射电流：0-150mA可调

　　·方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

　　·工作距离调节范围：30mm-100mm

　　徕卡真空镀膜仪

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